Diferencias
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| Ambos lados, revisión anterior Revisión previa | |||
| doc:tec:elo:lab_fa:pmt_rizado:inicio [2025/11/20 07:44] – [Factor de rizado] euloxio | doc:tec:elo:lab_fa:pmt_rizado:inicio [2025/11/20 07:44] (actual) – [Nivel de rizado y ruido] euloxio | ||
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| Línea 12: | Línea 12: | ||
| El diseño lineal de las etapas de salida permite suministrar tensión con pocas interferencias a dispositivos sensibles como los semiconductores complejos. Los valores bajos de rizado y ruido son también altamente recomendables para el desarrollo de amplificadores de potencia y circuitos MMIC. | El diseño lineal de las etapas de salida permite suministrar tensión con pocas interferencias a dispositivos sensibles como los semiconductores complejos. Los valores bajos de rizado y ruido son también altamente recomendables para el desarrollo de amplificadores de potencia y circuitos MMIC. | ||
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| ===== Factor de rizado ===== | ===== Factor de rizado ===== | ||